氨水加氧化剂清洗液 氨水加氧化剂清洗液配方为: NH4OH∶H2O2∶H2O=1∶10∶10~1∶20∶20,温度为25~40℃,时间10~30min。由于这种清洗液具有碱性、氧化性和络合性,可以发生氧化反应、产生微蚀刻作用,以达到去除表面颗粒的目的,可以去除一些有机污染物及部分重金属离子污染物。 硅清洗技术经历了持续的发展改进，包括早期用气相等效物替代在湿化学品中进行的部分清洗操作。难以置信的是，现代先进的Si清洗仍然依赖于大体上同一组化学溶液，不过它们的制备和送至晶圆的方法与最初提出的已大不相同。此外，传统上用湿清洗化学品做的表面选择清洗/修整功能现在是在气相中做的。 苏州晶淼半导体设备有限公司致力于向客户提供湿法制程刻蚀设备、清洗设备、高端PP/PVC通风柜/厨、CDS化学品集中供液系统一站式解决方案。精良的产品质量是我们的根本，超客户预期是我们的自我需求！