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蒙脱土简介
蒙脱土是一类由纳米厚度的表面带负电的硅酸盐片层，依靠层间的静电作用而堆积在一起构成的土状矿物，其晶体结构中的晶胞是由两层硅氧四面体中间夹一层铝氧八面体构成。具有独特的一维层状纳米结构和阳离子交换性特性，从而赋予蒙脱土诸多改性的可能和应用领域的扩大。经改性的蒙脱土具有很强的吸附能力，良好的分散性能，可以广泛应用高分子材料行业作为纳米聚合物高分子材料的添加剂，提高抗冲击、抗疲劳、尺寸稳定性及气体。
蒙脱土用途
蒙脱土（包括钙基、钠基、钠-钙基、镁基蒙脱土）经剥片分散、提纯改型、超细分级、特殊有机复合，平均晶片厚度小于25nm，被称为“WAN能材料”。蒙脱土的应用领域非常广泛，特别是通过无机和有机改性使其富有了许多独特的性能，应用领域更进一步扩大，广泛用于有毒物的吸附剂、催化剂、涂层剂，尤其是聚合物-层状纳米复合材料，使聚合物力学性能、阻燃性能、热稳定性能的提高，应用前景广阔。
简介
，蒙脱土超高速研磨分散机，蒙脱土三级管线式研磨分散机，采用德国先进的定转子技术以及皮带传动技术，将德国先进的胶体磨技术与德国先进的超高速分散机技术合二为一，设备即兼顾了高速研磨剪切，又具体了超高速分散、乳化、均质等功能。转速最GAO可达14000rpm，线速度最GAO可以44m/s。设备拥有很强的研磨分散能力。
CM2000的线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。
IKN采用的德国先进的三级定转子结构，由上至下分别为粗齿、中齿、细齿（或者超细齿），也就是我们通常所说的2P、2G、4M、6F、8SF，五组定转子可根据具体要求进行选配，而对于生气柴油乳化，我们一般选配2G、4M、8SF三组定转子作为一个组合，再配上IKN分散乳化机超高的线速度44m/s（高剪切分散乳化机影响物料分散乳化效果的是设备的剪切速率，而设备的剪切速率又是由线速度与定转子间隙决定的，当定转子间隙一定的时候，线速度越大，剪切速率越高，剪切效果就越好。设备的线速度又是由设备转速和定转子直径来决定的，当定转子直径一定的时候，设备转速越高，线速度就越高，剪切效果就越好），IKN三级剪切分散机转速范围在rpm之间，可根据客户具体要求进行调节。IKN为保证设备从中试型到生产型能做到线性放大，所以同一系列的设备线速度都是一致的（44m/s）。
