操作说明
1、开箱后，检查零件有否松脱；
2、机器放置在通风干燥的地方，确保机器处于水平位置；
3、按清洗所需加入适量的清洗液于清洗槽内；
4、如需加温，则启动加热控制器（数字显示），将温度旋转调至所需温度，温度以0-110℃（正常情况下，40-80℃）；
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5、正确连接电源插头：请务必确保所供电源可靠接地！
6、停止清洗过程：
1）、旋转超声定时器开关至“OFF”关闭位置，超声波运行停止，指示灯熄灭；
2）、旋转加热控制器至“OFF”位置，指示灯熄灭；
3）、断开整机电源；
4）、倒掉清洗液，用干净抹布对槽体及外围进行清洁保养，以备下一次使用
图片及报价可供参考 非标设备 以实际咨询为准，详情请致电： 李经理
清洗工艺
1、清洗工序的设定要根据污染的类型，污染程度，处理批量来决定，譬如，眼镜片的清洗一般要10个工序。在使用水系清洗剂时，最基本的工序制定如下：
2、超声波清洗(水系清洗剂)→超声波清洗(纯水、自来水)→脱水 (干燥)
3、干燥处理对清洗物的清洗性优劣非常重要，常见的干燥方法有热风干燥、通风干燥、真空干燥、离心脱水干燥、IPA提升干燥等，可按照生产批量、成本、产品精度、被洗物形状等加以选择。
4、工业用超声波清洗机多为单槽或双槽式、自动清洗形式的清洗机也有多槽形式。近年来，半导体行业用的清洗方式大多采用带950KHZ超声槽的单枚式“US喷淋”高频清洗，可得到高性能的清洗结果，“US喷淋”的方式是将载有950KHZ超声波所形成的水帷幕，用于液晶玻璃、电路芯片的超精密清洗，尘粒子可接近“零”的程度。
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