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主要工艺段技术原理
众所周知，紫外线是由电磁波组成，其本身所带有的能量与波长直接有关，波长越短，能量越大。通过采用D波段内的真空紫外线（波
长范围170~184.9nm），照射有机气体或恶臭气体分子，当这些气体分子吸收了这类紫外线光后，因紫外线光本身所带有的能量，使有
机气体或恶臭气体分子内部发生裂解，化学键断裂，形成游离状态的原子或基团（C*、H*、O*等）。同时，混合气体中的氧气被紫外线
光裂解形成游离的氧原子并结合生成臭氧UV O2→O- O*(活性氧) O* O2→O3(臭氧)；混合气体中的水蒸气被紫外线光裂解产生羟基
UV H2O→H OH-(羟基) ，而这些生成的臭氧和羟基具有极强的氧化性，可将废气分子裂解产生的原子和基团（甚至是有机气体或恶
臭气体分子）氧化成H2O和CO2等无污染的低分子化合物。另外，利用高能紫外线光束可裂解恶臭气体中细菌的分子键，破坏细菌的核酸
（DNA），再通过臭氧进行氧化反应，彻底达到脱臭及杀菌的目的。
关于设备净化处理效果
根据韩国环境研究所提供的资料显示，在实验室条件下，采用UV光解工艺对单一的有机废气物质或恶臭气体物质严格控制进气浓度、气
量及其他条件时，UV光解设备功率充足的情况下，测得UV光解净化效率均可达到99%以上。但实际运用过程中，由于受到各种因素或者
条件的影响，如废气成分复杂，废气浓度不稳定或者不能达到UV光解最适中的范围（浓度过高或过低均会影响其净化去除率），风量、
气压、温度、湿度等环境条件不稳定或者达不到UV光解净化的要求，废气预处理做的不够理想，后续排放管道没有留够充足的氧化反应
管道等等，导致UV光解的净化效率参差不齐，差异很大，甚至在满足所有外在条件的基础上，处理不同成分的废气其净化效率也有差别
。所以很难单纯的去界定一套UV光解净化设备对废气的净化去除率，我们只能说尽量的去调整影响UV光解净化设备净化率的各种因素，
尽量的去提高UV光解净化工艺的净化效率。在各种因素都比较适宜的条件下，UV光解净化系统在实际运用中是可以达到90%以上的，甚
至某些成分的废气其净化效率可以达到95%以上甚至更高。
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