UV光催化氧化设备：
，光催化氧化是在外界可见光的作用下发生催化作用，光催化氧化反应是以半导体及空气为催化剂，以光为能量，将有机物降解为CO2和H2O。UV光催化设备是目前工业废气处理技术中先进的技术之一，UV光催化设备的开发充分考虑了工业废气性质的不确定性和复杂性，从工程的设计、配套、安装、调试、维护等方面提供了很大的可行性、可靠性、灵活性、有效性。
UV光解净化系统安装及运行条件：
1.高能紫外线灯管发射的高能紫外线产生的光子所具有的能量必须大于恶臭气体分子的分子键结合能，才能将恶臭气体分子裂解。
2.混合气体中需要有足够的含氧量，才能产生足够的游离态氧和臭氧与裂解后的恶臭气体分子基团结合产生无污染的低分子化合物。因此不适应处理浓度过高的废气，如处理高浓度废气时，应相应的补充一部分新鲜风以增加含氧量。
3.需控制好光解的进气条件，包括温度、湿度、粉尘及气体黏性物质的含量、pH等，方可保证较高的高净化效率。（废气温度宜为常温，不高于60℃；废气的相对湿度应低于95%；pH适宜的范围为7~9；预处理设备应尽量降低粉尘和其他黏性或油脂性颗粒物，一般预处理后其含量不高于10mg/m3。）
4.裂解反应时间极短（＜0.01s），氧化反应时间需约2~3s，即废气从光解设备出来以后需2~3的氧化反应时间，即一般废气从UV光解设备出来至检测口须15米长或以上的管道
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业务咨询：郑经理
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