一、原理与用途：
本装置系采用非蒸散型锆铝16吸气剂为净化剂。在一定的温度下，吸气剂可与氩气中的微量杂质O2、N2、H2、H2O、CO、CH4等等形成稳定的化合物或固溶体，从而达到对氩气精制之目的。
本装置净化器采用特殊结构，具有接触面积大、阻力小、净化效果高、热功耗损少等优点。
本装置可与区熔硅单晶炉配套使用，也可用于激光器、溅射、半导体生产、气相色墙仪、特殊灯泡、稀有金属加工等需要用高纯氩气的生产技术领域。
二、主要技术指标：
1、处理气量：≤1Nm3/hi。
2、净化效果：
|
气 体 |
纯 度 |
N2 P.P.m |
O2 P.P.m |
H2O 露点 |
CO2 P.P.m |
CH2 P.P.m |
粒 径 ≥0.5m微尘 |
|
原料氩 |
99.99% |
<100 |
<15 |
-50℃ |
<5 |
<5 |
≤3000颗/升 |
|
精制氩 |
>99.999% |
≤0.2 |
≤0.2 |
-70℃ |
≤0.5 |
≤0.5 |
≤3.5颗/升 |
3、净化剂寿命：每炉可处理99.99%的氩气2500～3750立方米。
4、功率：1.2KW
电压：220V
频率：5HZ
5、外形尺寸：1450×450×600mm（高×宽×深）
6、重量：～120kg
三、工艺技术条件及流程
1、激活规范：800℃ 0.5～1小时（-760mmHg表压真空或
160升/小时氩气流下）
2、操作温度：700～740℃
3、操作压力：≤4Kgf/cm2欢迎新老用户选择我公司产品：氩气净化机，氩气净化器，高纯氩气净化，高纯氩气净化设备，高纯氩气纯化设备，高纯氩气纯化装置，YAC系列氩气净化设备，全自动氩气纯化设备，大型氩气净化设备，硅材料行业用氩气净化设备，硅材料用除氧、除水氩气纯化装置,气站专用氩气净化设备，气站专用氩气纯化器，气站用高纯氩设备,单晶硅行业用氩气除氧、干燥设备，多晶硅行业用氩气除氧、干燥设备,高纯氩气提纯设备，钨化氩气提纯机,多晶硅氩气过滤器，氩气纯化
