真空烧结炉配套用氩气纯化装置

  • 发布时间:2022-07-22 00:00:00,加入时间:2017年11月22日(距今2384天)
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一、概述 

氩气作为真空炉的冷却、保护气,为了提高产品的质量,通过使用本公司生产的氩气纯化装置,纯化后氩气的纯度大于99.9995%;当氩气中杂质氧含量小于1ppm时,水分也小于2.5ppm时,制作出的产品其碳化合物含量就小于1ppm,这样就大大提高了产品质量,赢得客户的满意和市场的需求。

一般液氩纯度是符合99.995%要求的。由于汽化后未经过纯化处理,它的氧含量一般在3ppm~5ppm。有时气体供应商提供的氩气超过了此范围,但使用氩气的客户确不知道其质量,所以往往给生产产品质量造成影响。有了本公司提供的氩气纯化装置后不论氩原料气的质量如何,只要经过纯化装置的处理后,纯度始终是恒定的。这样稳定的氩气质量有助于提高产品质量、提高生产效率。
二、本公司生产的真空炉配套氩气纯化装置对原料氩气要求      
      一般瓶装纯氩,液氩、控制较好的管道氩气。
      杂质要求: O2≤1000PPm, H2O≤1000PPm。
  输出纯气
     纯度:99.9998%
     杂质含量:
       O2≤0.5PPm,
       H2O≤1PPm(即露点≤-76℃),
       CO+CO2≤0.1PPm,
       S、P的氧化物≤0.1PPm。
       尘埃粒子数(≥0.3μm)3-5个升。
       工作压力:0.4-1.5MPa。
       处理气量:4NM3/h(其余流量需要定制)。
三、设备特点
1)   催化剂活性高,净化后的气体纯度高。
2)   双式结构,一组工作另一组再生备用,故能长期连续供气。
3)   采用本机纯气吹扫的再生流程,再生不用氢,故不需专用机房,安全性好。材料(如高温石墨化炉、碳化炉、真空烧结炉以及各种碳素材料的碳化及石墨化加热设备、单晶硅、多晶硅、高纯金属、贵金属)生产的保护气氛。

4)   设备操作方式分有半自动操作和全自动操作方式,更有效的满足用户选择性。

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