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ITO作为一种透明电极，不仅具有较好的导电性，而且在可见光波段具有较高的透射率，是比较合适的电极材料。 本文用磁控溅射的方式沉积ITO膜，通过改变磁控溅射的O2含量、溅射功率、衬底温度等工艺条件，制备出厚度相同的ITO膜。实验表明方块电阻和透过率均随着O2含量的的增加而增加，且O2含量越多，晶粒越大表面越粗糙;升高的衬底温度使方块电阻增大，而对透射率影响很小;溅射功率的增大使方块电阻和透射率降低，这归因于增加的载流子浓度。
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