本装置净化器采用特殊结构，具有接触面积大、阻力小、净化效率高、热功率损耗小等优点。本装置吸附干燥器对氩气进行深度脱水，可与区熔硅晶炉配套使用可用于激光器、溅射、半导体生产，气相色谱仪、直读光谱仪，特殊灯泡稀有金属加工等需要用超高纯氩气的生产技术领域。元素分析氩气纯化器此方案为直读光谱仪专用：当原料氩气纯度为≥99.9%时，其纯化工艺为，采用非蒸散型锆铝16吸气剂为净化剂，在一定温度下，吸气剂可于氩气中的O2、N2、H2、CO、CO2、CH4等等形成稳定的化合物或固溶体，从而达到对氩气精制的目的
技术特点
1. 本装置采用净化加纯化双重处理。它比一般净化机及单纯的纯化器多装有除去N2、CH4、H2、CO等杂质高效吸气剂，因此 它不但具有普通净化机除去O2、H2O、CO2杂质的功能，还具有普通净化机不具有的除去N2、CH4、H2、CO等杂质的功能。纯度都在6个9以上，是当今净化装置所能达到的高水平。
2. 本装置双系统结构，开机后一组工作，另一组再生备用，且工作和再生都自动进行，故能够长期连续供气；当杂质吸附饱和后，可通过再生恢复活性，故寿命长。
3. 本装置采用微电脑工业控制技术，具有全自动功能，使用操作最简单，克服了手动和半自动机型因人工操作失误引起的气体不纯，性能稳定可靠，只要有气源，就可实现长期无人管理。
4. 双式结构，开机后一组工作， 另一组再生备用,而且工作和再生都自动进行，故能连续供气，一台能顶单式的两台使用。
5. 对原料氩气要求不高，普通工业纯氩只要纯度达到≥99.96％就可以。
6. 气路系统全用电动控制阀及不锈钢电化抛光管制造，避免了因气路质量过差而对气体的二次污染。
处理量：4NM3/h
设备使用介质：纯度>99.9%氩气
净化后气体纯度：Ar>99.9995%
净化后气体中杂质含量：
O2≤0.5ppm； CO+CO2≤0.1ppm；露点≤-70℃
尘埃粒子数（≥0.3μm）3-5个/升，即100级
设备重量：120Kg
外形尺寸：450mm×600mm×1200mm
服务
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3.在保修期内的使用损坏，我公司负责包修，包换，包退；
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