山东半导体厂低浓度废气治理方案

  • 发布时间:2025-04-16 00:00:00,加入时间:2016年08月05日(距今3223天)
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        UV光氧催化设备广泛应用于喷漆厂除臭、橡胶厂除臭、塑料厂、油漆厂除臭、喷涂车间除臭、电子厂除臭、造纸厂除臭、电路板厂、包装厂除臭、树脂厂除臭、油墨厂除臭、医药厂除臭、饲料厂除臭、涂装厂除臭、纺织服装厂除臭、养殖屠宰厂除臭、污水泵站除臭、垃圾处理站除臭、污泥干化站除臭、防水材料厂除臭、沥青厂除臭、电镀厂除臭、化肥厂除臭、家具厂除臭、皮革厂除臭、烟草除臭、化工厂除臭、冷冻厂除臭、食品厂除臭、造纸厂除臭、印刷厂除臭、饲料厂除臭、香精厂除臭、污水处理厂除臭、VOC有机废气处理除臭、养龟房除臭除臭、4s店喷漆废气除臭、酒店除臭、商场除臭、医院除臭、粪便处理、合成纤维、合成树酯、工业污水、生活污水处理等行业的废气处理、臭气处理、尾气处理、异味净化、空气净化、消毒杀菌等。

技术原理: 

1.光催化氧化是在外界可见光的作用下发生催化作用,光催化氧化反应是以半导体及空气为催化剂,以光为能量,将有机物降解为CO2和H2O。本公司采用的半导体是目前反应效率很高的纳米TiO2光催化剂,经过特殊处理后使用,达到理想效果.

2. 在光催化氧化反应中,通过紫外光照射在纳米TiO2光催化剂上产生电子空穴对,与表面吸附的水份(H2O)和氧气(O2)反应生成氧化性很活波的羟基自由基(OH-)和超氧离子自由基能够把各种废臭气体如醛类、苯类、氨类、氮氧化物、硫化物及其它VOC类有机物在光催化氧化的作用下还原成二氧化碳(CO2)、水(H2O)以及其它无毒无害物质,由于在光催化氧化反应过程中无任何添加剂,所以不会产生二次污染。

UV光氧催化设备注意事项:

1.本设备不可以用于净化易燃、易爆或腐蚀性的气体;经处理后的废气须排到室外;

2.内置光管紫外线光束对人的眼睛和皮肤有伤害,请谨慎小心使用;

3.使用环境:环境温度:+10~+40℃;湿度:20~90%;气流温度<80℃;

4.安装在室外时,应有防雨、遮阳的雨篷措施,避免影响设备的使用寿命。 

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