标准压印掩膜（Standard Stamp）
NIL抗反射掩膜 (ANTI-REFLECTION)
抗反射膜模板的特点是以大面积为主；适用于可见光范围和近红外范围，反射率可减低到 0.2%
规格 Type B Type A Type C Type NIR
模板型号 ARSS_B_06 ARSS_A_02 ARSS_C_02 ARSS_NIR_02
材质 Nickel Nickel Nickel Nickel
光栅类型 Hexagonal Array Hexagonal Array Hexagonal Array Hexagonal Array
Pitch 300 nm 250 nm 250 nm 500 nm
Average height 300 nm 350 nm 350 nm Larger than 700 nm
模板厚度 300 µm 300 µm 300 µm 300 -m
模板尺寸 70 mm x 70 mm 120 mm x 120 mm 250 mm x 250 mm 100 mm x 100 mm
有效面积 50 mm x 50 mm 100 mm x 100mm 200 mm x 200 mm 80 mm x 80 mm
Expected %R PMMA Less than 0.6% Less than 0.2% Less than 0.2% Less than 0.2%
Less than 0.3%
Pattern polarity Protrusions Protrusion Protrusions Holes
NIL衍射光栅模板 (DIFFRACTION GRATINGS)
衍射光栅采用镍材质模板，表面纹路分为线状或交叉状两种，平均深度为250nm，线距为500nm。适合用于：LED & OLED 光的外耦合OUT-COUPLING，将不同光导入波导WAVEGUIDE，光学分束，镭射感应器，薄膜行业和太阳能光伏等。
特点：
纹路形状呈正弦曲线SINUSOIDAL ，纹路的参数也不同
80 x 80mm有效面积（模板面积为100 x 100mm）
规格：
规格 Linear Grating Crossed grating
模板型号 DG_L500 DG_C500
材质 Nickel Nickel
Profile shape Sinusoidal Sinusoidal
Pitch 500 nm 500 nm
Average depth 250 nm 250 nm
模板厚度 300 µm 300 µm
模板尺寸 100 mm x 100 mm 100 mm x 100 mm
有效面积 80 mm x 80 mm 80 mm x 80 mm
NIL金属线栅偏光镜模板(WIRE GRID POLARIZER)
一般金属线栅偏光镜制造出来后需要经过一定测试，而NILT通过纳米压印生产出金属线栅偏光镜的标准模板，可避免频繁的测试，免去因测试所造成的成本。标准模板的线呈槽状，槽宽、槽距均为50nm，模板的有效面积可达12 x 12mm, L/S 50nm，模板复制子模适用于UV或热压过程。
规格：
规格 Type A Type B
模板型号 WGPSS_A_V1 WGPSS_B_V1
模板尺寸 2 inch round wafer with flat 2 inch round wafer with flat
材质 Silicon Silicon
有效面积 12 mm x 12 mm 6 mm x 6 mm
模板厚度 500 µm +/- 25 µm 500 µm +/- 25 µm
结构类型 50 nm wide grooves with 50 nm spacing 50 nm wide grooves with 50 nm spacing
横向公差 +/- 10 nm +/- 10 nm
结构深度 100 nm 100 nm
垂直公差 +/- 15 nm +/- 15 nm
缺陷密度 Less thanf patterned area Less thanf patterned area
