UV光催化设备的特点：
1、UV光催化设备能高效去除挥发性有机物、硫化氢、氨气等无机物类污染物，以及各种恶臭味，脱臭效率可达99%以上，脱臭效果大大优于颁布的恶臭污染物排放标准(GB
2、UV光催化设备可适应于绝大部分高浓度，大气量，不同恶臭气体物质的脱臭净化处理，通过合理的模块配置可广泛应用于：炼油厂、橡胶厂、化工厂、制厂、污水处理厂、垃圾中转站、污水泵房、空调等恶臭气体的脱臭灭菌净化处理。可每天24小时连续工作，运行稳定可靠。
3、UV光催化设备无任何机械装置，无运动噪音，无需专人管理和日常维护，只需要作定期检查维护，维护和能耗成本低，风阻极低，可节约大量排风动力能耗，达到节能的目的。
4、UV光催化设备采用光解原理，采取了隔处理，了安全隐患、防火、防、防腐蚀性能高，设备性能安全稳定，特别适用于高浓度易燃易废气的场合。
5、UV光催化设备无需恶臭气体进行特殊的预处理，如加温、加湿等，设备工作环境温度在-30度~95度之间，湿度在30%~98%、PH值在2~13范围均可正常工作，无需添加其他物质及剂参与处理。
6、UV光催化设备可根据风量及气体浓度的大小，进行灵活配置，采用抽屉式插拔安装形式，配件统一，安装及维护方便。备件可在线维护和更换，方便灵活。
在光照下，如果光子的能量大于半导体禁带宽度，其价带上的电子（e-）就会被激发到导带上，同时在价带上产生空穴（h+）。当存在合适的俘获剂、表面缺陷或者其他因素时，电子和空穴的复合得到抑制，就会在催化剂表面发生氧化还原反应。价带空穴是良好的氧化剂，导带电子是良好的还原剂，在半导体光催化反应中，一般与表面吸附的H2O、O2反应生成.OH和超氧离子O2-，能够把各种有机物直接氧化成CO2和H2O等无机小分子，电子也具有强还原性，可以还原吸附在其表面的物质。激发态的导带电子和价带空穴能重新合并，并产生热能或其他形式散发掉。
光催化对从烃到墙酸的众多种类有机物都有氧化效果，美国环保署公布的九大类114中污染物均被证实可通过光催化氧化法降解。
本产品利用特制的高能UV紫外线光束照射恶臭气体物质分子键，裂解性臭味气体物质如：氨、、硫化氢、甲硫氢、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S、VOC类，苯、非甲烷总烃等的分子键，使呈游离状态的污染物原子与臭氧氧化聚合成小分子无害或低害物质，如CO2、H2O等。利用高能UV光束裂解恶臭气体中的分子键，破坏的核酸(DNA)，再通过氧化反应，彻底达到脱臭及杀灭的目的。
光解催化设备在波长范围 170nm-184.9nm（704 kj/mol - 647 kj/mol）高能紫
外线的作用下，一方面空气中的氧气被裂解，然后组合产生臭氧；另一方面将恶臭气体的化学键断裂，uv光氧催化设备优良，使之形成游离态的原子或基团；同时产生的臭氧参与到反应过程中，使恶臭气体最终被裂解、氧化生成简单的稳定的化合物，如CO2、H2O、SO2、N2等。
1、恶臭物质能否被光解除臭设备裂解，取决于其化学键键能是否比所提供的UV光子的能量要低。
2、裂解反应的时间极短（＜0.01s），氧化反应的时间需2-3s。
3、提供的UV光子总功率不够或者含氧量不足，会因为裂解或氧化不完全而生成一些中间副产物，从而影响净化效率。对于高浓度大分子的有机恶臭物质体现得较为明显。
4、UV光解净化的长期稳定、需要反应温度＜70℃，光氧催化，粉尘量＜100mg/m3，相对湿度＜99%。
5、条件满足的情况下，uv光氧催化设备，UV光解净化的净化效率可达到99.9%以上。
光解催化设备紫外光催化技术对于某些有机化合物的部分化学键键能高于所提供的UV光子能量，如甲醛的“C=O”键的键能为728kj/mol。目前我们所提供的UV光子的能量为 704kj/mol（正在研发742kj/mol和800kj/mol）。甲醛在170nm的UV紫外光的照射下，会裂解生成游离态的[C=O]*、 H*。一部分[C=O]*与03反应生成CO2，一部分[C=O]*在经过与N2等惰性物质碰撞后失去能量，生成CO，臭氧量充足时可将部分CO氧化成CO2 。
