申请集成电路布图设计保护须知
依据《集成电路布图设计保护条例》（以下简称条例），在申请集成电路布图设计专有权登记过程中，我们应该注意如下事项。
一、什么样的布图设计具有独创性？
要求保护的布图设计必须具有独创性，即该布图是创作者自己的智力劳动成果，并且在其创作时，该布图设计不是布图设计创作者和集成电路制造者中公认的常规设计。
受保护的由常规设计组成的布图设计，其组合作为整体同样应当具有独创性。
在这里，独创性评判的时间“创作时”为创作完成日；评判人为布图创作者和集成电路制造者；评判标准要视其是否是公认的常规设计。
特别应当指出的是布图设计仅保护根据网表设计出的布图，并不能延及思想、处理过程，操作方法或数字概念。同时，不登记不予保护。
二、谁能享有布图设计专有权？
中国的单位、个人或者其他组织创作的布图设计，依照条例享有布图设计专有权。
对于外国人，要区别对待：外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的，依照条例享有布图设计专有权；未在中国首先投入利用的布图设计，必须在中国参加WTO之后，才能申请。
港、澳、台地 区的申请，按国内申请处理，但法人必须委托涉外代理机构办理。
根据条例规定，布图设计自其在世界任何地方首次商业利用之日起2年内，仍可向国家知识产权局提出登记申请。我国根据TRIPS协议，将这一专有权追溯到1999年10月1日。
国家知识产权局对布图设计的权利人采用推定原则，即认为凡是到国家知识产权局来申请的，都视其是有权利的人。若出现问题，应通过司法程序解决。
三、申请人应提交哪些文件和样品？
申请人应提交的文件和样品包括布图设计登记申请表；布图设计的复制件或图样；布图已投入商业使用的，应提交含有该布图的集成电路样品；国家知识产权局规定的其他材料。
出现哪些问题申请将失败？
申请人未提交申请表，未提交复制件或图样，或者已投入商业利用未提交样品，或者与文件不一致；外国的申请在我国未参加WTO时提交；外国的申请以及港、澳、台的法人申请未按规定委托代理机构；首次商业利用日在申请日之前超过2年；创作日超过15年。
申请明显不属于集成电路布图设计；难以确定属于集成电路布图设计；申请表未写明申请人或地址、或集成电路名称、或商业利用日、创作日的；未使用中文的。
