1、专有权权利的内容
集成电路布图设计专有权包括两种权利：复制权和商业利用权（具体见条例第七条和第二条第四项和第五项）。见图3。因为专利法中不存在“复制”，所以“复制”这样的措辞是沿用著作权法里的用词。从本质上讲，布图设计的复制或者集成电路的复制是制造行为。为商业目的（除进口和销售外的）的提供的权利，笔者认为可以参照专利法中的许诺销售。因此可以借助专利权相对应地理解商业利用权，即为生产经营目的的许诺销售、为生产经营目的的销售、为生产经营目的的进口。故从权利内容看，专有权的权利内容是专利权和著作权中财产权利的混合体，但专有权不涉及人身权。
2、专有权的保护期限
专有权的10年保护期限明显短于著作权的50年保护期限和发明专利的20年保护期限，与实用新型专利和外观设计专利的保护期限相同。但理论上还存在少于10年保护期的情况。依据条例第十二条的规定，可以用图4理解专有权的保护期限。
（1）在申请登记时还没有进行商业利用，保护期限起算日为申请日。第一种，当申请日落入AB区间，即创作完成日起5年内申请登记，则保护期限为10年。这应当是最符合实际而且发生概率的情况，因为通常都会在创作完成后不久即申请登记。第二种，申请日落入BC区间，即创作完成日起5年至10年这一段时间申请登记，实际保护期不足10年。第三种，当在CD区间，即创作完成日起10年后才申请登记，则实际保护期不足5年。
（2）在申请登记时已经进行商业利用，保护期限起算日为首次商业利用日。依据首次商业利用日位于AB、BC、CD不同区间，保护期限同样存在上述三种情形。当申请日晚于首次商业利用日过久（但应小于2年）的时候，理论上存在一个问题，即布图设计已经被商业利用，社会公众很容易知晓相应的技术，如果在申请日之前有他人复制被登记的布图设计并商业利用的话，专有权人是否可以在获得登记证书后，就他们在申请日前的行为主张侵权并获得赔偿。这个在条例和细则中没有规定，但笔者理解可以参照专利申请的类似情形。
