1、专有权权利的内容
集成电路布图设计专有权包括两种权利:复制权和商业利用权(具体见条例第七条和第二条第四项和第五项)。见图3。因为专利法中不存在“复制”,所以“复制”这样的措辞是沿用著作权法里的用词。从本质上讲,布图设计的复制或者集成电路的复制是制造行为。为商业目的(除进口和销售外的)的提供的权利,笔者认为可以参照专利法中的许诺销售。因此可以借助专利权相对应地理解商业利用权,即为生产经营目的的许诺销售、为生产经营目的的销售、为生产经营目的的进口。故从权利内容看,专有权的权利内容是专利权和著作权中财产权利的混合体,但专有权不涉及人身权。
2、专有权的保护期限
专有权的10年保护期限明显短于著作权的50年保护期限和发明专利的20年保护期限,与实用新型专利和外观设计专利的保护期限相同。但理论上还存在少于10年保护期的情况。依据条例第十二条的规定,可以用图4理解专有权的保护期限。
(1)在申请登记时还没有进行商业利用,保护期限起算日为申请日。第一种,当申请日落入AB区间,即创作完成日起5年内申请登记,则保护期限为10年。这应当是最符合实际而且发生概率的情况,因为通常都会在创作完成后不久即申请登记。第二种,申请日落入BC区间,即创作完成日起5年至10年这一段时间申请登记,实际保护期不足10年。第三种,当在CD区间,即创作完成日起10年后才申请登记,则实际保护期不足5年。
(2)在申请登记时已经进行商业利用,保护期限起算日为首次商业利用日。依据首次商业利用日位于AB、BC、CD不同区间,保护期限同样存在上述三种情形。当申请日晚于首次商业利用日过久(但应小于2年)的时候,理论上存在一个问题,即布图设计已经被商业利用,社会公众很容易知晓相应的技术,如果在申请日之前有他人复制被登记的布图设计并商业利用的话,专有权人是否可以在获得登记证书后,就他们在申请日前的行为主张侵权并获得赔偿。这个在条例和细则中没有规定,但笔者理解可以参照专利申请的类似情形。