催化氧化技术
催化氧化技术的工作原理是VOCs在250——450℃温度的环境和相关催化剂的条件下,发生氧化反应,生成二氧化碳和水,从而达到处理VOCs的目的。
光催化技术是指在光照在半导体的条件下,当光子能量高过催化剂的吸收阈值时,半导体的价带电子能够从价带跃迁到导带,产生光生电子和空穴,继而空气中的纳米颗粒物表面形成超氧负离子,后和催化剂表面形成的羟基自由基将挥发性有机物转化成二氧化碳和水无毒无害物质。
催化氧化技术
催化氧化技术的工作原理是VOCs在250——450℃温度的环境和相关催化剂的条件下,发生氧化反应,生成二氧化碳和水,从而达到处理VOCs的目的。
光催化技术是指在光照在半导体的条件下,当光子能量高过催化剂的吸收阈值时,半导体的价带电子能够从价带跃迁到导带,产生光生电子和空穴,继而空气中的纳米颗粒物表面形成超氧负离子,后和催化剂表面形成的羟基自由基将挥发性有机物转化成二氧化碳和水无毒无害物质。
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