靶材：在溅射沉积技术中用做阴极的材料。该阴极材料在带正电荷的阳离子撞击下以分子、原子或离子的形式脱离阴极而在阳极表面重新沉积。
镀膜靶材：通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。简单说的话，靶材就是高速荷能粒子轰击的目标材料，用于高能激光武器中，不同功率密度、不同输出波形、不同波长的激光与不同的靶材相互作用时，会产生不同的杀伤破坏效应。
分类：
按照制造工艺分类，可以分为粉末冶金靶材，熔炼铸造靶材，等离子喷涂靶材。
按照使用形式可分为蒸发材料、电弧靶材、溅射靶材。
按照材质可分为金属靶材、合金靶材、陶瓷靶材等。
产品名称：钼靶材
纯度：W≥99.95%
属性：密度10.2g/cm3，熔点2610℃，沸点5560℃
规格:定制
圆形靶：直径＞360mmX厚度＞1mm
板靶：长＜300mmX宽＜300mmX厚度＞1mm
旋转靶：直径＜360mmX厚度＞2mm
注：如客户有特殊规格要求，可来电咨询。
包装方式:木箱包装
应用:广泛用于导电玻璃、STN/TN/TFT-LCD、光学玻璃、离子镀膜等行业，适用所有平面镀膜及旋转镀膜系统。本公司根据客户需求，提供各种材质，各种规格金属靶材，可来图加工、来料加工。
