双盘金相磨抛机YMP-2C
在金相试样制备过程中，试样的磨光与抛光是二项非常重要的工序，通常是采用金相试样预磨机和金相试样抛光机二种设备来完成。YMP-2C是集预磨机和抛光机功能于一体的磨抛一体机，该机经久耐用，维护保养也极为方便，能完成各种试样的粗磨、细磨、干磨、湿磨及抛光等各道工序，为扩大不同试样的制备要求，该机的磨、抛盘直径均大于国内同类产品。可在工作面上有更多不同线速度的选择，该机采用变频电机，一键控制双盘运行，双盘转速任意可调，可提高试样的磨抛质量和试样的制备效率，并该机转动平稳，噪音低，是一种极为理想和功能完善的最.佳金相制样设备。
主要技术参数：
磨盘直径：230mm
砂纸直径：230mm
抛盘直径：230mm
抛光布直径：230mm
转速r/min无极变速
电动机：BY71,350W
电压：220V,50Hz
外形尺寸：71×66×34cm
净重：51Kg
