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检查衬底和检查方法专利转让

  • 发布时间：2019-07-24 17:39:20,加入时间:2018年03月23日(距今2624天)
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摘要：用于检查处理生产衬底的设备的组件的检查衬底(IW)，所述设备例如光刻设备，所述组件例如液体限制系统。检查衬底包括：主体(200)，该主体具有与生产衬底相似的尺寸，使得检查衬底与设备兼容；以及传感器，例如成像装置(210)或压力传感器，用于生成检查信息，检查信息关于设备的靠近检查衬底的组件的参数，传感器被嵌入在主体中

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