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2016年中国半导体光刻设备的市场价值为273.6亿美元，预计2017年至2022年间复合年增长率将达到7.37％。汽车，消费电子，电信等多个行业对半导体设备的需求不断增长许多其他产品对半导体光刻设备市场产生积极影响。
过去，中国市场上没有EUV光刻设备，但未来EUV光刻设备将成为光刻市场中增长最快的部分。半导体工业正在增加，因此对这些设备的需求也在增加。为了制造半导体器件，公司需要在成本高的每个晶片上曝光。然而，EUV设备对于制造商是有利的，因为它仅在一个步骤中暴露临界层，这降低了半导体器件的制造成本。 EUV设备使用激光产生的等离子体作为光源，具有高质量波长并降低操作和维护成本。因此，下游芯片制造商将转向EUV光刻设备。目前，就收入而言，DUV光刻设备占中国主要市场份额的89.34％。
光刻设备市场的关键制约因素之一是制造过程需要洁净室和设备。微小的灰尘颗粒也会阻碍整个制造过程，从而给公司带来沉重的经济损失。此外，由于制造缺陷导致的供应延迟导致订单取消和客户转移到其他供应商的形式的额外损失。然而，光刻设备在诸如先进封装，MEMS和LED以及其他半导体器件等应用中的广泛机会是该市场令人印象深刻的增长的原因。
前端细分市场是更为重要的下游市场，其中包括ASML，尼康和佳能等前三大制造商，这三大制造商占据了整个市场的85.37％以上。本地供应商SMEE专注于后端市场。
恒州博智发表China Semiconductor Photolithography Equipment Market Research Report 2018该报告提供了半导体光刻设备行业的基本概况，包括定义，分类，应用和产业链结构。讨论发展政策和计划以及制造流程和成本结构。
报告重点关注全球主要地区行业参与者，包括公司简介，产品图片和规格，销售，市场份额和联系信息等信息。更重要的是，分析半导体光刻设备行业发展趋势和营销渠道。提供了关于行业现状的主要统计数据，对于对市场有兴趣的公司和个人来说是一个宝贵的指导和方向。
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