高分子材料由于自身结构的原因，暴露在日光或强的荧光下，会出现外观和物理 机械能劣化(如：变色、失去光泽、出现银纹、侵蚀、龟裂以及拉伸强度、冲击强度、伸长性和 电性能下降等)的光老化现象。虽然结构不同的聚合物的光老化速率存在显著的差异，但所 有未经稳定化处理的高分子材料暴露在日光下，无论有没有氧存在，都会发生光老化。高分 子材料光老化的最终结果是使用寿命缩短(如聚丙烯制品，如果不作稳定化处理，其户外使 用寿命只有几个月)，这就大大影响了高分子材料户外使用的经济性和环保性，限制了其应 用范围。同时，由于高分子材料应用范围广，使用量巨大，因老化而使材料废弃不仅给经济 带来损失，还给环境带来巨大的压力。
为了延缓高分子材料的光老化，在高分子材料加工过程中添加光稳定剂是行业内 普遍使用的方法，此法简单有效，无需改变现有生产工艺。目前对于光稳定剂的制备方法主 要是：(1)通过反应合成新型结构的光稳定剂；(2)通过几种光稳定剂的复配来制备更加高 效的光稳定剂体系。第一种反应合成的制备方法较为复杂，对于生产设备及工艺的要求较 高，不利于实施，而第二种复配的方法，由于高分子材料与光稳定剂在极性上存在一些差异 而导致二者相容性较差，往往因为分散不均匀而影响光稳定效果，且部分光稳定剂价格昂 贵，又无可替代，导致了高分子材料生产成本的提高
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室温下，将纳米二氧化硅、2-羟基-4-正辛氧 基二苯甲酮(UV-531)按照质量比1:0.1置于丙溶剂中充分混合，再于室温下，挥干溶剂， 烘干后粉碎过筛即得到负载型抗氧剂。
将负载型光稳定剂按配方添加到聚乙烯中利用双螺杆挤出机挤出造粒得到抗光 老化聚乙烯。
纳米二氧化硅与光稳定剂相比，成本较低，使用其作为载体，可在达到相同光稳 定效果的同时，大大降低光稳定剂的用量，从而从总体上降低材料的生产成本；
纳米二氧化硅作为载体，在PP、PE等聚合物上应用时更有利于生产多孔抗紫外 薄膜。
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