福建喷涂气味净化处理工艺

第一、在使用光氧净化器的时候，我们要做好对使用的气缸或者是法兰的检查，一旦在使用的过程中，出现漏气的使用问题，就说明使用的密封圈出现了使用的问题，要做好及时更换。

　　第二、对于光氧净化器门上的密封条，在使用的时候，比较容易出现老化的状况，而一旦检查出光氧净化器门上密封条出现了老化的现象，就要及时的对密封圈进行更换。

　　第三、对于光氧净化器上的参数标准，我们也要做好定期的参数测定，比如说对气量，对温度，对浓度等参数的测定，一旦出现了参数标准不符合要求的状况，就要及时的查找原因，并及时的进行处理。

目前，针对这种气体排放，一般采用吸附、焚烧或两者相结合的处理方法。吸附是利用多孔性固体吸附剂处理混合气体，使其中所含的一种或多种组分吸附于固体表面上，达到分离的目的。吸附剂选择性高，能分开其他过程难以分开的混合物，有效地清除（或回收）浓度很低的有害物质，净化效率高，设备简单，操作方便，且能实现自动控制。

但固体吸附剂的吸附容量小，需要大量的吸附剂，设备庞大，且吸附后吸附剂需要再生处理，是吸附处理的主要缺点。半导体生产场所挥发出来的有机废气通过局部排风罩收集，经管道送至吸附净化系统。

一般采用活性炭作为吸附剂。因为活性炭是非极性吸附剂，对废气中水蒸气的灵敏度不高，且价格便宜。

焚烧的方法也广泛用于半导体行业的各种有机废气处理，通过热氧化将有机物转化为 CO2 和水。

同时，焚烧对处理稳定流量和浓度的废气也是一种很好的方法。在热氧化中，有机废气流经过加热，气相中的有机物被氧化。为节省燃料使用，通常还使用热交换器，回收焚烧产生的热量对进口气体进行预热。

对于处理大流量、低浓度的气体，通常都要采用这种方法。由于半导体行业废气焚烧会产生SiO2，且SiO2会使催化剂钝化，因此半导体行业中很少采用接触氧化的方法。

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