总体来说,专利申请要经过以下流程:
1、发明
撰写申请文件——递交——受理、缴纳申请费——初审公布进入实际审查——下发审查意见通知书及申请人答复——授权——缴纳登年印费、颁发授权书
2、实用新型和外观设计
撰写申请文件——递交——受理、缴纳申请费——初审公告——授权——缴纳登年印费、颁发授权书
可以看出,实用新型和外观设计的申请流程要比发明简单一些,省去了实质审查的部分,因此申请周期短,费用也相对较低。
总体来说,专利申请要经过以下流程:
1、发明
撰写申请文件——递交——受理、缴纳申请费——初审公布进入实际审查——下发审查意见通知书及申请人答复——授权——缴纳登年印费、颁发授权书
2、实用新型和外观设计
撰写申请文件——递交——受理、缴纳申请费——初审公告——授权——缴纳登年印费、颁发授权书
可以看出,实用新型和外观设计的申请流程要比发明简单一些,省去了实质审查的部分,因此申请周期短,费用也相对较低。
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