一、光催化氧化装置工艺原理：
1、光催化氧化装置利用高能高臭氧紫外线光束分解空气中的氧分子产生游离氧，即活性氧，因游离氧所携正负电子不平衡所以需与氧分子结合，进而产生臭氧。UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3(臭氧),众所周知臭氧对有 机物具有极强的氧化作用，对有 机气体及其它刺激性异味有立 竿见影的清除效果。有 机性气体利用排风设备输入到本净化设备后，运用高能紫外线光束及臭氧对有 机(异味)气体进行协同分解氧化反应，使有 机气体物质其降解转化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通过排风管道排出室外。
2、催化剂(二氧化钛)在受到紫外线光照射时生成化学活泼性很强的超氧化物阴离子自由基和氢氧自由基，攻击有 机物，达到降解有 机物的作用。二氧化钛属于非溶出型材料，在彻 底分解有 机污染物和杀灭 菌的同时，自身不分解、不溶出，光催化作用持久，并具有持久的杀 菌、降解污染物效果。
二、光催化氧化装置的特点:
1光催化氧化适合在常温下将废臭气体完全氧化成无 毒无害的物质，适合处理高浓度、气量大、稳定性强的有毒有害气体的废气处理。
2有效净化彻 底：通过光催化氧化可直接将空气中的废臭气体完全氧化成无 毒无害的物质，不留任何二次污染。
3绿色能源：光催化氧化利用人工紫外线灯管产生的真空波紫外光作为能源来活 化光催化剂，驱动氧化—还原反应，而且光催化剂在反应过程中并不消耗，利用空气中的氧作为氧化剂，有效地降解有毒有害废臭气体成为光催化节约能源的特点。
4氧化性强：半导体光催化具有氧化性强的特点，对臭氧难以氧化的某些有 机物如三氯甲烷、四氯化炭、六氯苯、都能有效地加以分解，所以对难以降解的有 机物具有特别意义，光催化的有效氧化剂是羟基自由基(OH-)和超氧离子自由基(O2-、0-)，其氧化性高于常见的臭氧、双氧水、高锰酸钾、次氯酸等。
5广谱性：光催化氧化对从烃到羧酸的种类众多有 机物都有效，即使对原子有 机物如卤代烃、染料、含氮有 机物、有 机磷杀虫剂也有很好的去 除效果，只要经过一定时间的反应可达到完全净化。
6寿命长：在理论上，光催化剂的寿命是无限长的，无需更换.
光催化氧化装置的适用范围：
炼油厂、橡胶厂、化工厂、家具厂、制药厂、污水处理厂、垃圾转运站等恶臭气体的脱臭净化处理。
