供应日本光弛2350镀膜机

1.标配参数：单枪、离子源、晶控、23公分的射频源、热阻蒸、顶部侧部加热、两个扩散泵、一个螺丝泵、一个机械泵

2.用途：此真空镀膜机是镀制防污膜（AS膜）及防反射膜+防污膜（AF+AS膜）型光学镀膜机，应用于镀膜机等所配的触摸屏。真空中制备膜层可防止膜料和镀件表面的污染，消除空间碰撞，提高镀层的致密性和可制备单一化合物的特殊功能的镀层。为了提高镀层厚度的均匀性，运动模式的膜均匀性好，镀层的台阶覆盖性能好，承载能力大，可充分利用有效空间的真空镀膜室，是一个运动的常用模式。排气系统一般由机械泵，扩散泵，管道和阀门组成。为了提高泵的流量，可以添加增压器之间的机械泵和扩散泵。因此，不仅在较短的时间内低压力以保证快速的工作循环的排气系统，还需要确保气体的蒸发源和蒸镀工件表面产生快速的去除。蒸发系统包括电气设备和加热蒸发源蒸发源。电气设备包括测量真空薄膜的厚度和控制

3.特征：磁密封驱动的基板旋转式可得到稳定和均匀的膜厚分布

4.配备：配备RF离子源以提高膜的耐摩擦性；用于防污膜（AS 膜）批量生产；防污膜（AS 膜）批量生产。

5.性能：达到压强7.0E-5Pa以下

6.配置参数：

真空室 Ф2350mm×H 1400mm

基板架 Ф2200 mm

基板架转速 20rpm

晶振式膜厚计 6点式⽔晶传感器

蒸发源电⼦枪1台，热阻蒸

达到压强 7.0E-5Pa 以下

排强时间 15分以下（压强〜2.0×10-3 Pa）

7.工作条件：