安庆市集成电路布图设计申请的条件有哪些？取得布图设计专有权需要两个条件：一是具有独创性，即该布图设计是创作者自己的智力劳动成果；二是在申请人创作时该布图设计在布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规设计。从这里可以看出布图设计取得权利的创新性门槛要低于专利权。
经登记后，布图设计权利人享有的专有权包括对受保护的布图设计的全部或者其中任何具有独创性的部分进行复制，以及将受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品投入商业利用。
也就是说，未经权利人许可的上述行为构成侵犯布图设计专有权。他人即使是通过反向工程获取权利人的布图设计后进行复制也构成侵权，这点与侵害技术秘密的情形有所不同，反向工程可作为后者的合法抗辩。
与专利权等知识产权类似，布图设计专有权也适用权利用尽原则，即布图设计权利人或者经其许可投放市场后，他人再次商业利用的，不再需要得到权利人的许可或者授权，且不构成侵权。
判断某产品是否构成布图设计侵权，可先确定该产品的集成电路包含的布图设计是否与权利人的布图设计相同或部分相同，再对相同部分是否具有独创性进行认定，如相同部分具有独创性，则构成侵权。这两者的顺序并没有严格的限定，可根据实际情况进行调整。
