集成电路布图设计保护期多长？我国《集成电路布图设计保护条例》（下称“保护条例”）第12条规定了10年的保护期限，自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算，以较前日期为准。
《保护条例》第12条的“但书”同时规定，无论是否登记或者投入商业利用，布图设计自创作完成之日起15年后，不再受本条例保护。《保护条例》第17条规定，布图设计自其在世界任何地方首次商业利用之日起2年内，未向国务院知识产权行政部门提出登记申请的，国务院知识产权行政部门不再予以登记。
集成电路布图设计的10年保护期限自申请日或首次商业利用日起算，如果为了实现10年的完整保护，申请日或首次商业利用日最迟自创作完成日的5年内完成，否则在《保护条例》第12条“但书”的约束下，5年期满每超过1天，实际的保护期限将缩短1天。
登记公告后是否可以查阅和复制？《集成电路布图设计保护条例实施细则》（下称“实施细则”）第39条 （公众查阅和复制）规定：布图设计登记公告后，公众可以请求查阅该布图设计登记簿或者请求国家知识产权局提供该登记簿的副本。公众也可以请求查阅该布图设计的复制件或者图样的纸件。
《实施细则》第39条同时规定：本细则第14条所述的电子版本的复制件或者图样，除侵权诉讼或者行政处理程序需要外，任何人不得查阅或者复制。《实施细则》第15条（涉及保密信息的申请）规定：布图设计在申请日之前没有投入商业利用的，该布图设计登记申请可以有保密信息，其比例最多不得超过该集成电路布图设计总面积的50%。含有保密信息的图层的复制件或者图样页码编号及总页数应当与布图设计登记申请表中所填写的一致。
虽然根据《实施细则》第39条的规定，公众可以查阅布图设计的复制件或图样的纸件，不允许查阅或复制电子版本的复制件或图样。但根据《实施细则》第15条的规定，布图设计投入商业利用的时间在申请日之后，该布图设计可以对独创部分进行不超过总面积50%的遮挡。
由此可见，如果布图设计的申请人申请登记在先、投入商业利用在后，那么即使允许社会公众查阅布图设计的复制件或图样的纸件，同样无法获知布图设计的独创部分内容，相当于布图设计并未对社会公众公开。
