超细实验室胶体磨

超细实验室胶体磨，超细小型胶体磨，科研用胶体磨设备

  胶体磨介绍：为实验室研发，模拟生产流程，为量产提供可靠的数据论证。该中试型型机器和大型量产机型配置相同,且分散头的种类及相应线速度实验室胶体磨CM02000是在CM2000基础上的进一步优化产品，有着更新的技术创新.也相同，中试过程中的工艺参数在量产化之后不要重新调整，而将机器型号升过程中的风险降到。

   CM02000是在CM2000基础上的进一步优化产品，有着更新的技术创新.锥型刀具间隙可调节至小，来减小颗粒粒径，从而可获得更细的悬浮液。胶体磨转子表面含高硬质材料如金属碳化物或不同颗粒的陶瓷,具有好的粉碎效果。在强剪切区域内亦可受到保护防止被磨损或腐蚀。根据物料粘度情况的不同，可以灵活调节间隙保证处理效果均一。 磨头的材质:有金属碳化物或陶瓷涂层的锥磨转子，另有医药及食品材质。 特点:定转子间隙都可以方便简单的调整以满足生产需要。

胶体磨设备参数表：

高速胶体磨 流量* 输出 线速度 功率 入口/出口连接

类型 l/h rpm m/s kW

CMD 2000/4 700 14000 40 4 DN25/DN15

CMD 2000/5 5,000 10,500 40 11 DN40/DN32

CMD 2000/10 10,000 7,300 40 22 DN50/DN50

CMD 2000/20 30,000 4,900 40 45 DN80/DN65

CMD 2000/30 60,000 2,850 40 75 DN150/DN125

CMD 2000/50 100000 2,000 40 160 DN200/DN150

*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到大允许量的10%。