破坏臭氧层的物质 Ozone Depleting Substances(ODCs)
· 人们把破坏大气臭氧层、危害人类生存环境的物质称为“消耗臭氧层物质”，简称ODS。目前认为ODS包括下列物质：CFC、哈龙（Halon）、四氯化碳、甲基氯仿、溴甲烷以及HCFC、HBFC等 。根据ODS物质破坏臭氧层能力的不同，为了便于衡量，科学家根据科学试验为这些物质建立了破坏臭氧层潜能值即ODP值。CFC-11的ODP值为1.0。
· 包括：CFC、HCFC、Halon哈龙、HBFC、HFC、PFC、CHCs、Bromomethane甲基省（溴甲烷）
国际组织《关于消耗臭氧层物质的蒙特利尔议定书》及其该《议定书修正》规定了15种氯氟烷烃（CFCs）、 3种哈龙、40种含氢氯氟烷烃（HCFCs）、34种含氢溴氟烷烃（HBFCs）、四氯化碳（CCl4）、甲基氯仿（CH3CCl3）和甲基溴（CH3Br）为控制使用的消耗臭氧层物质，也称受控物质。
氯氟烷烃（CFCs）。此类化合物自1928年人类首次合成后被以多种方式使用，冰箱、空调制冷剂、气雾剂制品中的推进剂（CFC11、CFC12）、生产靠垫和垫子的软发泡剂、印刷线路板和其它设备的清洗剂等。
含氢氯氟烷烃（HCFC）。此类物质是CFCs的一种过渡性替代品，HCFC因为含有H，使得它在底层大气易于分解，对O3层的破坏能力低于CFCs，但长期和大量使用对O3层危害也很大。
在工程和生产中作为溶剂的四氯化碳（CCl4）和甲基氯仿（CH3CCl3）同样具有很大的破坏O3层的潜值，所以也被列为受控物质。
溴氟烷烃主要是哈龙：哈龙1211（CF2BrCl）、哈龙1310（CF3Br）、哈龙2420（C2F4Br2），这些物质一般用作特殊场合的灭火剂。此类物质对臭氧层破坏性，比CFCs高3～10倍，1994年发达国家已经停止这3种哈龙的生产。
近年来，主要用于土壤熏蒸和检疫的另一种破坏臭氧层的含溴化合物即甲基溴（CH3Br）引起了人们的重视，它也被列为受控物质。
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leoliu刘俊健
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