高纯氮化硅

  • 发布时间:2022-03-08 15:55:24,加入时间:2013年05月08日(距今4505天)
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参数指标:

纯度: 99.99%-99.999%

总氧含量:0.05%

含氮量:38.2%

金属杂质含量:见当批生产后的检测报告

D50: 0.5um

比表面积:13.24m2/g

外观:灰白粉末

保存期: 干燥环境下保存二年

应用:此产品专为太阳能多晶硅铸锭切片时所用的石英坩埚的涂层进行研发生产。在生产氮化硅的生产技术上进行严格控制,选用高纯原材料,在产品生产的初期和成品收集后都经过特殊工艺的提纯。此产品拥有良好的亲水性能,在坩埚内壁的附着力强,脱模效果好。

除此以外,本品还可以用于荧光粉,高端电子和半导体封装及零部件制造中。

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