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采用了二级处理结构，第一级采用了高剪切胶体磨的磨头模块，第二季采用了高剪切分散乳化机的分散乳化模块，第二级模块可根据客户对物料的处理要求开配定转子，定转子可配2P、2G、4M、6F、8SF，且定转子精密度都达到了国际领先水平。
的工作原理：
高剪切胶体磨在电动机的高速转动下物料从进口处直接进入高剪切破碎区，通过一种特殊粉碎装置，将流体中的一些大粉团、粘块、团块等大小颗粒迅速破碎，然后吸入剪切粉碎 区，在十分狭窄的工作过道内由于转子刀片与定子刀片相对高速切割从而产生强烈摩擦及研磨破碎等。在机械运动和离心力的作用下，将已粉碎细化的物料重新压入精磨区进行研磨破碎。精磨区分三级，越向外延伸一级磨片精度越高，齿距越小，线速度越长，物料越磨越细，同时流体逐步向径向作曲线延伸。每到一级流体的方 向速度瞬间发生变化，并且受到每分钟上千万次的高速剪切、强烈摩擦、挤压研磨、颗粒粉碎等，在经过三个精磨区的上千万次的高速剪切、研磨粉碎之后，从而产 生液料分子链断裂、颗粒粉碎、液粒撕破等功效使物料充分达到分散、粉碎、乳化、均质、细化的目的。
是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。
第一级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。
第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面不同。
CMD2000系列研磨分散机的特点：
1、 线速度很高，剪切间隙非常小，当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨
2、定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。
3、定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离
4、 在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。
5、 高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。
