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目前对于含铟废料之处理技术,主要以溅镀过后ITO废靶材及喷砂(氧化铝)或溼式溶蚀方法将喷镀时残留于腔室内ITO材料加以回收,由于化学清洗后所产生之废液中,除了存在铟离子外,更包含了诸多金属离子,如:锡、铁、 铜、铬、镉、镍、铝……等杂质,目前坊间铟回收技术之回收率仅为70%,且回收成本高,所产生之废弃物总量亦极为可观。
1. ITO即铟锡氧化物,金属铟就占了 ITO 含量的 70%~90%,因此铟是不可或缺的原料之一,目前铟大量运用在光电产业的 LCD 产业及太阳能面板中;随着 3C 产业的发达,全球对 ITO 的需求量也随之增加。
2. ITO靶材溅射镀膜利用率一般约为60%,其溅镀后所剩的为ITO废靶材。
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