产品名称 1200℃管式炉CVD系统
产品型号 TN-D3F型
产品简介 广泛用于各种反应温度在1100℃左右的CVD实验，也可用于：真空烧结、真空气氛保护烧结、纳米材料制备、电池材料制备等多研究领域。
TN-D3F型1200℃管式炉CVD系统
该仪器可广泛用于各种反应温度在1100℃左右的CVD实验，也可用于：真空烧结、真空气氛保护烧结、纳米材料制备、电池材料制备等多研究领域。
技术参数：
1 产品名称 1200℃管式炉CVD系统
2 产品型号 TN-D3F型
3 显示模式 高亮数码管显示(LED)
4 炉膛模式 封闭式
5 炉膛材料 进口纤维
6 加热元件 进口合金加热丝
7 极限温度 1200℃
8 工作温度 ≤1150℃
9 升温速率 ≤20℃(建议:10℃/min)
10 加热温区 单温区
11 温区长度 200mm
12 恒温区长 100mm
13 炉管材料 高纯石英管
14 密封方式 真空法兰
15 气密性 真空法兰和刚玉炉管的气密性可达4.03×10-3Pa
16 测温元件 K型热电偶
17 控温精度 ±1℃
18 气体通道 可连接3种气源
19 电源 220v 50Hz～60Hz
