ito靶材就是氧化铟和氧化锡粉末按一定比例混合后经过一系列的生产工艺加工成型，再高温气氛烧结(1600度，通氧气烧结)形成的黑灰色陶瓷半导体。ito薄膜是利用ITO靶材作为原材料，目前全球In消耗量的50%以上用于加工铟锡氧化物(indiumtinoxides,ITO)靶材,制造透明电极用于生产平面显示器。
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