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口服混悬液高剪切胶体磨,通过超高的转速和剪切速率减小物料微粒的粒径,配合正确的工艺,从而使混悬液达到一种稳定的状态。
混悬液的贮存存在物理稳定性问题。混悬液中药物微粒分散度大,微粒与分散介质之间存在着物理界面,使混悬微粒具有较高的表面自由能,混悬剂处于不稳定状态。疏水性药物的混悬剂比亲水性药物存在更大的稳定性问题。若要制得沉降缓慢的混悬液,应减少颗粒的大小,增加分散剂的粘度及减少固液间的密度差。 李佩佩
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de 剪切速率可以超过10000rpm,转子的速度可以达到44m/s。在该速度范围内,由剪切力所造成的湍流结合专门研制的电机可以使粒径范围小到纳米级。剪切力更强,乳液的粒径分布就更窄。
混悬液胶磨机,主要通过液滴在高速旋转的转子和定子间的间隙内被剪切,以及由此间隙和转子—定子上小孔射流的综合效应来实现。高速旋转的液滴受惯性离心力的推动,具有极大的冲击力,因而产生撞击作用。离心力的作用使未进入环隙时的液体具有一定压力,而进入环隙后成为高速旋转液流,液体离开定子小孔后压力又回升,所以也有一定的空穴效应。高剪切均质机高速旋转时的液滴流动状况相当复杂,主要受控于作用在液滴表面不断变化的流动速度和由此产生的脉动压力,从而发生了分裂液滴的张力,使液滴破裂。
剪切速率取决于以下因素:
转子的线速率 在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。
IKN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D(转子直径)X 转速 RPM / 60
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