本公司生产的真空镀膜电源（真空蒸发镀膜电源和真空溅射镀膜电源）有以下特点：
1、恒流输出，不随气压变化。
2、抑制靶材弧光放电及抗短路功能, 具有极佳的负载匹配能力。
3、工艺重复性好。
4、提高成膜速度， 实现高质量的溅射膜层。
详细说明：
真空镀膜电源
真空镀膜行业不同于以往的电镀行业，属于物理方式的表面处理行业。广泛用于各种金属及非金属镀膜装置，涂镀光元件、微电子元件、磁性元件、钟表、种类装饰材料、体育用品、精密工模具、薄膜包装等镀膜制品，以及应用于现代工业、航空航天航海等军事领域的镀耐蚀膜、耐磨损膜、固体润滑膜装置。 真空镀膜过程非常复杂，由于镀膜原理的不同分为很多种类，仅仅因为都需要高真空度 （HV,UHV）而拥有统一名称。真空镀膜主要分类有两个大种类：蒸发沉积镀膜和溅射沉积镀膜，具体则包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，溶胶凝胶法等等。
一、对于蒸发镀膜： 一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。
二 对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。
真空镀膜电源是真空镀膜设备的重要组成部分。例如在真空溅射设备中就是由溅射室、磁控溅射靶、对向磁控靶、射频电源、直流电源、样品加热转台、真空获得及测量系统、电控系统、气路系统、微机控制膜层系统等组成。
本公司自主研发生产的真空镀膜电源，成功地运用了优异的脉宽调制技术（PWM），引进三菱、富士等国外进的IGBT核心执行元件，大功率机器采用结构均流技术，并配以各种完善的保护功能，使得高频开关电源可靠性问题得到了圆满解决，满足低纹波要求，且体积小、重量轻、节能环保，是一种性价比最优异的直流电源产品，也是可控硅整流电源的替代品。
• 技术参数
•
品名 真空镀膜电源
型号 SPWM系列
输入 相数 单相或三相
电压 V
频率 50Hz
输入方式 4线（含地线）
输出 波形 直线
功率 30KW /60KW /100KW（可定制）
电压 0—1200V（可定制）
稳定度 ≤1%
电流 0—200A（可定制）
稳定度 ≤1%
纹波及杂讯 ≤5%或≤3%
效率 ≥90%
控制 功率 可选择
电压 恒压控制，可本地控制也可通过0-10V或4-20mA
电流 可选择
保护 具备缺相、过热、限压、恒功率、过压、过流、短路、超载等保护功能
冷却 风冷
外型 外壳
尺寸(W*D*H) 482.6mm*600mm*266.7mm（30KW）
重量 30KG（30KW）
备注
•
