一、集成电路布图设计实质上是一种图形设计，但它并非是工业品外观设计，不能适用专利法保护。因为，从专利法的保护对象来看，针对产品、方法或其改进所提出的新的技术方案要求具有创造性、新颖性和实用性。这一点对集成电路布图设计而言往往难以做到。从专利的的取得程序，专利申请审批的时间过长，成本较高，不利于技术的推广和应用。
集成电路布图设计虽然在形态上是一种图形设计，但它既不是一定思想的表达形式，也不具备艺术性，因而不在作品之列，不能采用著作权法加以保护。而且集成电路布图设计更新换代较快，若用著作权法来保护布图设计，则会因著作权的保护期过长而不利于集成电路业的发展。
二、集成电路设计权获取流程
1、申请:向国家知识产权行政部门提交申请文件;
2、初审;
3、登记并公告;
4、对驳回申请的复审;
5、登记的撤销。
三、提交申请文件之后的流程
申请人提交的申请文件，经国家知识产权局审查后，未发现形式缺陷的，审查员发出受理通知书和缴费通知书；存在形式缺陷的，审查员发出受理通知书和补正通知书，申请人应按补正通知书上的要求，在规定期限内提交补正材料，如果经补正已克服全部缺陷，则审查员发出缴费通知书。
四、办理集成电路布图设计登记手续的周期
当申请文件不存在形式缺陷时，自申请人提交文件后大约一个半月收到受理通知书，自申请人缴费成功后大约一个半月收到登记证书，整个周期约为三个月。
