UV光催化设备工作原理：
1、利用特制的高能高臭氧UV紫外线光束照射来裂解排放的废气废气，能有效的处理：硫化氢、甲硫氢、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯，硫化物H2S、VOC类，等废气的分子链结构，使有机或无机高分子废气化合物分子链，在高能紫外线光束照射下，降解转变成低分子化合物，如CO2、H2O等，从而达到有效的治理，实现达标排放。
在光照下，如果光子的能量大于半导体禁带宽度，其价带上的电子（e-）就会被激发到导带上，同时在价带上产生空穴（h+）。当存在合适的俘获剂、表面缺陷或者其他因素时，电子和空穴的复合得到抑制，就会在催化剂表面发生氧化还原反应。价带空穴是良好的氧化剂，导带电子是良好的还原剂，在半导体光催化反应中，一般与表面吸附的H2O、O2反应生成.OH和超氧离子O2-，能够把各种有机物直接氧化成CO2和H2O等无机小分子，电子也具有强还原性，可以还原吸附在其表面的物质。激发态的导带电子和价带空穴能重新合并，并产生热能或其他形式散发掉。
光解催化设备在波长范围170nm-184.9nm（704kj/mol-647kj/mol）高能紫外线的作用下，一方面空气中的氧气被裂解，然后组合产生臭氧；另一方面将恶臭气体的化学键断裂，uv光氧催化设备优良，使之形成游离态的原子或基团；同时产生的臭氧参与到反应过程中，使恶臭气体最终被裂解、氧化生成简单的稳定的化合物，如CO2、H2O、SO2、N2等。
1、恶臭物质能否被光解除臭设备裂解，取决于其化学键键能是否比所提供的UV光子的能量要低。
2、裂解反应的时间极短（＜0.01s），氧化反应的时间需2-3s。
3、提供的UV光子总功率不够或者含氧量不足，会因为裂解或氧化不完全而生成一些中间副产物，从而影响净化效率。对于高浓度大分子的有机恶臭物质体现得较为明显。
4、UV光解净化的长期稳定、需要反应温度＜70℃，光氧催化，粉尘量＜100mg/m3，相对湿度＜99%。
5、条件满足的情况下，uv光氧催化设备，UV光解净化的净化效率可达到99.9%以上。
