仪器名称：
X射线光电子能谱（XPS测试）
原理：激发源为X射线，用X射线作用于样品表面，产生光电子。通过分析光电子的能量分布得到光电子能谱研究样品表面组成和结构。
适合分析材料:金属、高分子等材料，薄膜，涂层等
应用领域：半导体技术、冶金、催化、矿物加工和晶体生长等
特点：
⑴可测除H、He以外的所有元素。检测灵敏度约为0.1 at%。
⑵亚单层灵敏度；探测深度1～10nm，依赖材料和实验参数。
⑶可元素定量分析。
⑷优异的化学信息，化学位移和卫星结构与完整的标准化合物数据库的联合使用。
⑸分析是非结构破坏的；X射线束损伤通常微不足道。
⑹详细的电子结构和某些几何信息。
