山东潍坊 光刻胶成分分析/配方还原
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光刻胶成分介绍
光刻胶主要是由感光树脂、增感剂（增感染料）和溶剂三种主要成分组成的对光敏感的混合液体。具体是受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。具体是：
1、正胶经过曝光后，受到光照的部分变得容易溶解，经过显影后被溶解，只留下未受光照的部分形成图形；
2、负胶经过曝光后，受到光照的部分会变得不易溶解，经过显影后，留下光照部分形成图形。
光刻胶配方配制工艺技术：
1、光聚合型：采用烯类单体，在光作用下生成自由基，自由基再进一步引发单体聚合，最后生成聚合物，具有形成正像的特点。
2、光分解型：采用含有叠氮醌类化合物的材料，经光照后，会发生光分解反应，由油溶性变为水溶性，可以制成正性胶。
3、光交联型：采用聚yi烯醇月桂酸酯等作为光敏材料，在光的作用下，其分子中的双键被打开，并使链与链之间发生交联，形成一种不溶性的网状结构。
杭州浙大检测技术
光刻胶成分分析：分析出光刻胶中的树脂、助剂、稀释剂、固化剂等各自是什么原料和用量是多少，测试时间为10个工作日以内。
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