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批次式研磨均质机,批次式实验室纳米研磨均质机

  • 发布时间:2023-11-02 09:40:52,加入时间:2012年05月16日(距今4761天)
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而对于胶体磨和均质机的结合,人们大多想到的是将两台机器串联,已达到想要的效果。但通过上海IKN的实验研究,两台机器的串联的效果并不是很理想,而且工序繁杂,辅助设备多,能量消耗也比较大。所以,为了解决这个问题,更好的服务于海藻生产和海藻油的提取。上海依肯克服各种困难,研发出最xin的胶体磨+均质机相结合的一体化设备CMD2000系列。通过实验表明CMD2000系列设备能够达到“1+1>2”的效果。
  

CMD2000系列研磨均质设备是IKN(上海)公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品,该机特别适合于需要研磨均质乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装,我们将三级变跟为一级,然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过乳化机将物料均质乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换(我们提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五种乳化头供客户选择)。

 

CMD2000系列研磨均质机的结构:

研磨式均质机是由锥体磨,均质机组合而成的高科技产品。

第一级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。
                 

第二级由转定子组成。均质头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。
           

CMD2000系列研磨均质机的特点:

1   线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨

2   定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。

3   定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离

4   在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

5  高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

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