基片的清洗和预处理
OLED对ITO的要求
表面洁净；表面平整；功函数较高。
有机层与ITO之间界面对发光性能的影响至关重要，ITO玻璃在使用前必须仔细清洗，目的是除去表面上物理附着的污物和化学附着的有机物等。
ITO表面处理工艺
ITO的不均匀性将导致有机层不均匀，从而易形成局部强电场引起OLED中黑斑的产生。平整的ITO表面场强均匀，减小短路的危险，提高OLED的稳定性。
在沉积有机层之前，ITO表面必须进行仔细的清洗，否则不能得到稳定的OLED器件。
ITO 基片处理 ITO For OLED
ITO膜表面形态对OLED器件的性能
粗糙的ITO膜表面将使光线产生漫反射,减小出射光效率,降低OLED的外量子效率。
OLED加电压时,粗糙表面会影响OLED的内电场分布。ITO表面的尖峰将导致局部高电场,高电场将使激子解离成为正负载流子,致使发光强度降低;而且高电场将加速有机材料的恶化,以至降低OLED的稳定性。
ITO膜是有机物膜进行淀积的基底, ITO膜的表面形态将影响有机膜的成膜的吸附性、内应力和结晶度。由于粗糙的表面将不利于有机分子之间内聚形成晶体,因而粗糙的表面易于形成不定形结构的有机物薄膜。对于不定形结构的有机物来说,结晶有机物的出现将增加电子与晶格碰撞的可能性,这将降低OLED器件的发光效率和能量效率。
等离子体处理
等离子体的作用通常是改变表面粗糙度和提高功函数。研究发现，等离子作用对表面粗糙度的影响不大，只能使ITO的均方根粗糙度从1.8nm降到1.6nm，但对功函数的影响却较大。
用等离子体处理提高功函数的方法也不尽相同。
氧等离子处理是通过补充ITO表面的氧空位来提高表面氧含量的。
