Brthrper-NP-900系列负型光刻胶
一种丙烯酸共聚物树脂型、近紫外线曝光的负型光刻胶
应用领域：
用于制造超厚（50-200um）和中厚（10-50um）MEMS微结构，以及普通膜厚（0.3-10u）的各种挖洞、字符等型貌的光刻线条；适合i、G线，X-Ray，E-beam曝光
深圳市邦得凌触控显示技术有限公司的Brthrper-NP-900系列负型光刻胶是一种丙烯酸共聚物树脂型、近紫外线曝光的光刻胶。
分别适用于制造超厚（50-200um）和中厚（10-50um）MEMS微结构，以及普通膜（0.3-10um）的各种挖洞、字符等型貌的光刻线条；适合i、G线，X-Ray，E-beam曝光。
具有好的热稳定性、抗刻蚀性、高分辨率、高深宽等特点。对近紫外350~400nm波段曝光最为敏感。即使在非常厚的光刻胶曝光情况下，曝光均匀一致，可得到具有Profile垂直侧壁和的厚膜图形。
Brthrper-NP-900系列负型光刻胶的特性
1）厚度范围，单层涂胶厚度为 0.3um to 200 um
2）50um以上厚度光刻图型高深宽比可达：10:1
3）适用于旋涂工艺涂布，比自流平式后膜光刻胶工艺制程效率更高；
4）表面平整度高，50-100um膜厚在8吋晶元面积平均膜厚误差≤5%
5）可靠性高，后烘坚膜后可作为芯片倒封装以及chiplet封装支撑胶
应用：MEMS，激光芯片，钝化层应用LED微流倒封装以及光传感器干法蚀刻制作
Brthrper-NP-901A光刻工艺参数：
1.涂胶 500-1500rpm/10s
2.前烘 90℃/4min
3.曝光 150mj/cm2
4.显影 60s/27-30℃；显影液：1：99/AMPHBAL2001
5.后烘 120－200℃/30-60min
Brthrper-NP-931A光刻工艺参数：
1.涂胶 800-3000rpm/10s
2.前烘 110℃/4min
3.曝光 200mj/cm2
4.显影 120s/27-30℃；显影液：1：99/AMPHBAL2001
5.后烘 180－230℃/30-60min
Brthrper-NP-951A光刻工艺参数：
1.涂胶 3000-5000rpm/10s
2.前烘 110℃/4min
3.曝光 200mj/cm2
4.显影 150-180s/27-30℃；显影液：1：99/AMPHBAL2001
5.后烘 200－230℃/30-60min
成膜物化参数
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序号 |
项目名称 |
指标 |
参考标准 |
|
1 |
透过率(400nm) |
98% |
230℃/1h |
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2 |
坚膜铅笔硬度 |
2H |
三菱铅笔/750g |
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3 |
粘度值 |
8.9~1000cp |
粘度仪 |
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4 |
成膜均匀性 |
<3% |
9点法 |
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5 |
温度耐受范围 |
-20~250℃ |
-- |
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6 |
吸水率 |
1.5% |
100℃/2h |
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7 |
表面电阻率 |
1.36*1016 Ω/cm2 |
四探针法 |
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8 |
像素坡度 |
23~120° |
显微镜x50 |
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9 |
介电常数 |
3.4 （>1014Ω/□） |
-- |
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10 |
耐化学 |
浸泡1h膜完好 |
IPA、NMP、GBL、TMAH |
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11 |
百格刀测试 |
OK |
3M胶带 |
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12 |
比重 |
1.03g/cm3 |
重量杯 |
三、包装及贮存
包装：3.8L洁净加仑桶，加不透光包装袋
贮存：密封后于0-5摄氏度保存；贮运中避免日晒、雨淋、泄露
保质期：3个月
四、公司介绍
深圳邦得凌
柔性和大尺寸触控方案解决专家
深圳市邦得凌触控显示技术有限公司成立于2018年11月，是一家自主研发并生产负型光刻胶（也称为负型光阻剂）的高科技企业。创始团队不仅具备卓越的光刻胶配方和树脂原材料的设计开发能力，而且掌握底层元器件的加工制造技术，具有实现先进材料和先进制造一体化的双重创新基因。
