各种废气除臭设备也开始多了起来，而其中应用较为广泛的就是UV光解除臭设备，虽然相比于活性炭除臭，它的日常维护要方便得多，但是也是需要定期清理的，下面小编就和大家说下UV光解除臭设备的清理方法。
首先就是直接的人工方法。在UV光解设备上系上一个安全绳或者安全带，之后按照一定的顺序清理设备里的污渍，这种清理办法的缺点是成本高、风险高等，但是优点就是清理的效果非常好，由于UV光解设备净化清理的周期大概为一年左右，所以这种清理办法还是不错的。
其次就是拆卸法。顾名思义就知道了，这种办法就是把UV光解除臭设备拆开，之后一块一块的清理，由于设备的精密性，所以这种办法对于操作人员的技术要求比较高，整个清洁的过程也是比较复杂的。
如果上述两种办法都不好使，那么第三种办法就是开孔清洁法，这种办法适用于设备不易于拆卸的位置，通过开孔的方法来清洁设备，开孔的个数以及位置都是根据现场来定的，所以这种清洁的办法适用于大多数的设备。
现在UV光解除臭设备已经开发出多种清理办法，不需要专业人员就可以完成任务，但是要按照厂商的说明书一步一步操作。
UV光解除臭设备组成结构
离子净化技术正是基于这种理论进行研发的。在电场作用下，离子发生器产生大量的α粒子， α粒子与空气中的氧分子进行碰撞而形成正、 负氧离子。正氧离子具有很强的氧化性，能在极短的时间内氧化、分解甲硫醇、氨、硫化氢等污染因子，且在与 VOC 分子相接触后 打开有机挥发性气体的化学键， 经过一系列的反应， 终生成二氧化碳和水等稳定无害的小 分子。同时，氧离子能破坏空气中细菌的生存环境，降低室内空间细菌浓度，带电离子可以 吸附大于自身重量几十倍的悬浮颗粒，靠自重沉降下来，从而清除空中悬浮胶体，达到净化 空气的目的。
UV光解除臭设备组成结构
UV光解等离子除臭设备是由离子发生器、离子传送管、控制系统组成、用来除臭、清除异味的空气净化设备，普遍应用于工厂、车间、污水站、垃圾除臭等场所。常见的有等离子 除臭设备、高能离子除臭设备、光氢离子除臭设备。离子除臭设备的主要原理是在高压电场 作用下，产生大量的正、负氧离子，具有很强的氧化性。能在极短的时间内氧化、分解甲硫 醇、氨、硫化氢、醚类、胺类等污染臭气因子，打开有机挥发性气体的化学键，终生成二 氧化碳和水等稳定无害的小分子，从而达到净化空气的目的。
UV光解等离子除臭设备适用于：垃圾、 污水厂等市政设施，以及制药厂、油漆厂、涂料厂、皮革厂、石油化工、农药厂、制药厂、 印刷厂、造纸厂、饲料加工厂等等工业场所。降解挥发性有机污染物(VOCs)传统的处理方法如吸收、吸附、冷凝和燃烧等，对于低浓度的VOCs很难实现， 而光催化降解VOCs又存在催化剂容易失活的问题， 利用低温等离子体处理 VOCs 可以不受上述条件的限制， 具有潜在的优势。
